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探傷儀實(shí)施探傷時(shí)的注意事項(xiàng)

作者:admin 發(fā)表時(shí)間:2012/6/30 18:08:31

當(dāng)個(gè)探傷面不能用一次連續(xù)的探傷作(包括磁化、施加磁粉、觀察)完成探傷時(shí), 應(yīng)設(shè)定毎一次探傷操作作的范圍,然后把探傷面適當(dāng)分割成幾個(gè)分,根抿要進(jìn)行多次反復(fù)探傷。此時(shí),相鄰效探傷范圍的邊緣須有一定的迭。

不能預(yù)計(jì)缺陷的方向以及檢測(cè)各個(gè)不同方的缺陷時(shí),對(duì)試件至少要施加兩個(gè)以上不同方向的場(chǎng),且對(duì)各個(gè)方向以及分別進(jìn)行復(fù)驗(yàn)。此時(shí),應(yīng)采可對(duì)試件依次作多方向反復(fù)磁化,同時(shí)可以用連續(xù)法進(jìn)行探傷。

剩磁法探傷時(shí),在化后,磁觀察尚未完成后.探傷面不得與其他試件強(qiáng)磁體接觸。

對(duì)幾個(gè)試件同時(shí)進(jìn)行探傷時(shí).必須周密考慮試件的布、磁化方法及進(jìn)化電流等。

對(duì)已經(jīng)發(fā)現(xiàn)的磁,若以判斷其真?zhèn)螘r(shí),應(yīng)進(jìn)行退磁,必要時(shí)應(yīng)變更表面狀態(tài),隨后再進(jìn)行復(fù)驗(yàn),以確定它是否于偽磁痕。

足否偽磁痕,可按下方法鑒定:

1磁寫(xiě),一經(jīng)退磁復(fù)驗(yàn)后,磁即消失。

2因強(qiáng)電流致使磁粉聚集而產(chǎn)生的偽磁痕,可減小電流成采用剩磁法復(fù)驗(yàn),磁即會(huì)消失。

3因探傷面糙而形成的磁痕.可將探傷面光后進(jìn)行復(fù)驗(yàn),磁使會(huì)消失。

4對(duì)出現(xiàn)在磁導(dǎo)率突變部位的磁,可由宏觀檢驗(yàn)、顯微鏡檢驗(yàn)等磁粉探傷以外的檢測(cè)方法來(lái)辨認(rèn)。